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第412章 光损耗破0.8(1 / 2)

光子芯片研发中心的测试台前,第四轮波导样片的数据正在一点一点往外跳。

屏幕左侧叠着三条旧曲线,第一条0.95dB/Cm,第二条0.88dB/Cm,第三条0.82dB/Cm,三条线的终点都被沈明轩用红笔在打印稿上圈过。

实验室里只有设备运行的低响。

两个工程师站在他身后,一个手里拿着记录板,一个盯着实时数据窗口。

沈明轩手里捏着一支红笔,笔帽被他扣在尾端,笔尖悬在打印稿上方。

这一轮从上午开始跑,样片编号是G-4-17,工艺记录里多了一行备注,梯度刻蚀窗口二次修正。

年轻工程师看了一眼前三轮数据,小声说:“沈老师,前三轮趋势是往下的,0.95,0.88,0.82。”

沈明轩没有抬头。

屏幕上的第四条曲线开始成型,前半段比第三条更低一点,中段有一小段抬头,又慢慢下去。

沈明轩把鼠标移到曲线尾端,等最后一个数据点刷新出来。

第四轮数据全部跑完。

屏幕上四条曲线完整叠在一起,从上到下分得清楚,每一条都比前一条低。

沈明轩拿起红笔,在打印稿第一条曲线旁画了一个箭头。

1.1→0.95,刻蚀角度容差过大,高温测试时额外散射损耗明显。

第二个箭头。

0.95→0.88,梯度刻蚀后,侧壁粗糙度从12nm降到8nm。

第三个箭头。

0.88→0.82,刻蚀时间窗口继续收窄,端面损耗没有继续放大。

第四个箭头画到一半,他的笔停住。

曲线终点旁边,测试条件一行一行列着,1550nm,室温,TE模式,样片编号G-4-17,重复测试三次。

最终读数,0.8dB/Cm。

旁边的工程师低头确认原始文件名,又看向主屏:“沈老师,重复测试三次都在0.8上下,偏差没有超。”

沈明轩把鼠标移到原始数据导出按钮上,保存,备份,签名。

工程师伸手想把打印稿拿去复印,沈明轩先按住了。

他把四个箭头重新看了一遍,红笔从1.1一路滑到0.8。

实验室里仍没人说话。

年轻工程师终于没忍住,低声说:“破了。”

沈明轩退后半步,看着屏幕上的四条线。

“0.8。”

他把红笔盖好,放在测试台边。

“方向对了,梯度刻蚀是通的。”

这句话落下,记录板上的工程师才把刚才空着的结果栏补上。

0.8dB/Cm。

沈明轩打开电脑里的六周攻关计划。

文件第一栏写着,第一阶段,突破0.8dB/Cm。

他在这一栏右侧打了一个勾。

勾打完后,屏幕下面还有第二栏,第三栏。

0.65。

0.5。

那两行空着。

沈明轩没有停留,关掉文件,把测试截图、原始数据包、工艺记录和重复测试报告打包成一个加密文件。

他点开陈启的对话框。

【0.8,突破了】

消息发出去后,他把手机放在测试台边,没有继续盯着屏幕。

陈启回得很快。

【收到,继续】

沈明轩看着那两个字,手指在手机边缘停了停。

他没有回复。

从0.8到0.5,继续加油。

实验室门口有人探头进来,是负责设备维护的工程师。

“沈老师,数据出来了吗?”

年轻工程师回头,举了一下手里的记录板:“0.8。”

设备工程师脚步停在门口,随后把手里的工具箱放下,走进来凑到屏幕前看。

他把屏幕上的测试条件看了一遍。

“这一版梯度刻蚀要不要马上上下一批?”

沈明轩看向他。

“先备份设备状态,刻蚀机不要动,工艺窗口锁住,下午不跑新样。”

设备工程师愣了一下:“不继续?”

沈明轩把打印稿夹进文件夹。